| 電圧: | 380ボルト | 原産地: | 中国(本土) | 銘柄: | hyvac | 条件: | 新しい | モデル番号: | JGP-3 | 重量: | カスタマイズされた重量 | 力(W): | 500ワットdc & rf | タイプ: | 研究室研究施設 | 保証: | 一年 | 認証: | iso9001: 2008 | 次元(L*W*H): | h1600mm | 基質: | 金属、dielectrical、他の新しい材料 | コーティング: | 真空メッキ | 提供される売り上げ後のサービス: | 利用できるエンジニア機械類を海外に整備するため | 名前: | uhvマグネトロンスパッタリングシステム | アプリケーション: | 沈着さまざまな薄膜で実験室 | 到達真空: | 6.6X10-8 pa | マグネトロンスパッタリングターゲット: | 4 | 真空チャンバー: | オプション | サンプルサイズ: | 50〜300ミリメートルオプション | オプション: | 要求に応じて |
包装
| 包装: | standrads |
アプリケーション:
uhvマグネトロンスパッタリングシステム用に設計されdepostionの薄膜、 で使用する科学研究機関または大学または小規模生産。
仕様:
真空チャンバー | Φ400 Φ500 Φ600 Φ800 1000 × 1200 × 300ミリメートル(長方形) | |
到達真空 | 6.6x10-7 pa | |
マグネトロンputteringターゲット: Φ〜Φ200、 完全にまで4ターゲット dcとrf互換、 水が冷却され、 必要に応じて選択として以下のオプション:
| 長方形ターゲット | 300 × 120 |
円形ターゲット | Φ76x300〜700 | |
電磁ターゲット | Φ70 | |
サンプルサイズ | Φ〜Φ150mm、 Φ200mm〜Φ300mm | |
*加熱温度範囲のサンプルrt〜600 & #8451;。 冷却、暖房、抗スパッタリングクリーン、 革命と回転することができるrelized *オプション:フィルム厚さ監視;反応スパッタリング;イオンビームアシスタントスパッタリング | ||
瀋陽huiyu真空テクニクスco. ltd
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