| 原産地: | 中国(本土) | 銘柄: | hyvac | モデル番号: | JGP3 | 到達真空: | 3X10-5Pa | 真空チャンバー: | id 400 × 300 ミリメートル | アプリケーション: | 沈着薄膜 | 番号の ターゲット: | 3 ターゲット | ターゲット ソース: | マグネトロン ターゲット |
包装
| 包装: | standrad |
アプリケーション:
超真空3-targetマグネトロンスパッタリングシステム用に設計され沈着の金属フィルム、dielectricalフィルム、 と他の研究室研究上の新しい材料。
仕様:
特別デザインが可能です。
超真空 | 3X10-5Pa |
真空チャンバー | (id) 400 × 350ミリメートル、 |
サンプルホルダー | サンプルホルダーは設置がアッパーカバーの真空チャンバ、 をサイズのサンプルはid20、 と行くことができ上下下手動またはモータドライブ、 とは回転式で10-60回転/分。 |
加熱温度 | 500 & #8451;、 プログラムのcontroled |
サイズのターゲット | id 60、 をターゲットは手動で調整相対にサンプル以内40ミリメートル移動距離 |
電力供給 | 二組の500ワットdc電源とは500ワットrfパワーサプライ |
*輸入質量流量計は装備用事前cis | |
pvd & cvdコーティングシステム用研究または小規模生産:
超真空蒸発コーティングシステム
真空蒸発コーティング施設
大規模な高真空コーティングシステムでe-ビームと熱蒸発ソース
真空蒸発コーティング施設
超真空マルチ-ターゲットマグネトロンスパッタリングシステム
jgpシリーズ超真空マルチ-ターゲットマグネトロンスパッタリング施設
超真空3-ターゲットマグネトロンスパッタリングシステム
超真空4-ターゲットマグネトロンスパッタリングシステム
回旋高真空マルチ-ターゲットマグネトロンスパッタリングシステム
pldパルスレーザー沈着施設
金属の有機化学蒸着施設mocvd
高真空イオン射出施設
高-真空蒸着システム用機能薄膜
超真空電界放射施設
超-真空電界放射施設
超-真空電界放射cathode財産検出システム
浄化の有機発光材料
真空浄化施設用有機小分子
生産ライン用有機小分子浄化
真空圧力含浸機器vpi
真空炉
真空tungston電極アーク溶融炉用耐火metels
超高圧力と温度真空焼結炉
真空マグネトロンタングステン電極アーク溶融炉
高温真空管炉
高温雰囲気焼結炉
大規模なイオンビームエッチング機器
製造システム用ナノ材料(製造システム用グラフェン)
圧縮強度試験機
真空アセンブリ:
超真空金属ビューポート付きガラス密封された
をngleバルブ
磁気derict回転シャフト
磁気サンプル転送装置
mbe knudsen蒸発携帯
超真空フランジ
セラミック貫通コンデンサ
超真空溶接さベローズ
超真空highprecision四-フリーダムmunipulator
超真空ゲートバルブ
超真空シール銅ガスケット
4つの自由をサンプルmunipulator
超真空highprecision四-フリーダムmunipulator
マルチ-フリーダムサンプルテーブル
アクセルaccembly
角度の解決photoemission分光ビーム-ラインデバイス
beamstopper
ファラデーカップ
視野スクリーンターゲット
feedthrougs
アクセルプローブ
rf空洞で重いイオンcycloron
飛行時間型プローブ
医療
プライマリコリメータ重いイオンビーム
リッジフィルター用ヘビー-イオンビーム治療
