• プラズマクリーナー-他のクリーニング装置
    商品番号: 13422358
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    商品の詳細

    原産地: 中国(本土) 銘柄: hb モデル番号: HB-PCL-10L-B
    クリーニングのタイプ: プラズマ洗浄 特徴: 重大なクリーニング/残余は放す 力(W): 200-400ワット
    機械タイプ: 他の 材料: ガラス/陶磁器 使用される企業: エレクトロニクス産業
    条件: 新しい 認証: UL, CE 使用: 表面改質治療の基板、粒状材料
    提供される売り上げ後のサービス: 利用できるエンジニア機械類を海外に整備するため 名前: ウェハクリーニング 容量: 10l
    周波数オフセット: 未満0.2 Khz 表示モード: 液晶 ガス流量: 10-100ミリリットル/分

    包装

    包装: 木製ケース

    Multi-function laboratory plasma wafer cleaning

     

    Application of wafer cleaning

    1.Car industry: ignition coil engine oil seal film
    2.Defense industry: Aerospace electrical connectors,Kevlar deal
    3.Electronics industry: hard plastic parts, earphone, Cell phone cover
    4.Medical industry: intravenous infusion, catheter treatment
    5.Textile fiber,rubber and plastic industry and etc

     

    Featrues of wafer cleaning

    1. Environmental technologies: plasma process is the role of gas - solid coherent reactor consumes no water resources, no need to add chemicals and no environmental pollution.
    2. Wide adaptability: regardless of processing substrate type, such as metals, semiconductors, oxides, and most of the polymer material can be a good deal;
    3. Low temperature: close to room temperature, particularly suitable polymer materials, have a longer retention time and a higher surface tension than the corona and flame method.
    4. Multifunctions: it involves only a shallow surface of polymer materials (10 -1000A), while preserving the characteristics of the material itself can give it one or more  new features;
    5. Low cost: the device is simple, easy operation and maintenance, continuous operation,a few bottles of gas can replac thousands of kilograms cleaning fluid
    6. The whole process technology can be controlled: all the parameters can be setted by the computer and data recording
    7. Treated geometry Unlimited: Big or small, simple or complex, parts or textiles can be processed.

     

    Technical parmaters of wafer cleaning

     

    Model HB-PCL-10L-B
    Working current:Total working current not higher than 2A (Not include the vacuum pump)
    RF frequency13.56MHz
    RF power200-400W
    Frequency offset<0.4KHz
    Vacuum degree60Pa-100Pa
    Cleaning time1-6000s adjustable
    Gas flow>10-100ml
    Process Controlmanually/automatic
    Power10-100%adjustable
    Cleaning capacity10L
    Exhaust pipeKF vacuum flange+vacuum aluminum pipe
    Vacuum PumpBipolar direct rotary vane pump
    Impedance matchingautomatic
    DisplayLCD
    Power supplyAC 220V 60Hz

     

    プラズマクリーナー仕入れ・メーカー・工場 プラズマクリーナー仕入れ・メーカー・工場 2

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