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仕様

Statf- 1100xミニマルチポジションcvd回転管真空実験室炉1年保証ceisoと低価格で

Statf- 1100xミニチューブプログラム可能なマルチポジションロータリー真空ポンプを使用して真空実験室炉

Statf- 1100xは小さな石英管真空実験室炉( 25& mdash; 50の直径) のために設計された加熱まで1100oc少量のサンプル。 ステンレス鋼の真空を有するフランジバルブ、 真空圧力計と石英管はすぐに使用できるように含まれてい。 建て- 精密温度コントローラ缶までプログラムの30セグメントを加熱、 住居や冷却工程。 炉内に設定することができ垂直方向と水平方向の両方を満たすために配置など様々な用途加熱サンプルとして、 vls、 cvd焼入れテスト。 水平に炉を設定または角度で電子結晶を成長させるためのための半導体業界はそれを回転させ使用または焼アプリケーション用に垂直に。

Statf- 1100x炉管研究室を生成するために使用の数が多いナノ炭素材料、 そのような、 カーボンナノチューブ粉末、 カーボンナノチューブフィルムと指向性ナノカーボンチューブ、 等。 ことも出来る使用される真空焼結、 焼結保護雰囲気、 ナノ材料の生産、

Statf- 1100cvdチューブ真空実験室炉真空ポンプを使用して特性
1)密閉管炉
2)石英管やアルミナチューブ25/40/50mm
3)3- チャネル品質ガスコントローラ
4)入力不活性ガスであることが、 炭化水素ガス、 水素
5)の広い範囲からの圧力標準大気10pa低圧に、
6)最大。 温度1100。 cまたは1200。 c

の主な用途statf- 1100x管状炉:

冶金用、 力学、 軽工業、 商品検査、 大学機関と、 セラミックの燃焼

産業および鉱山企業で、 焼結、 塗膜、 cvd等。

仕様statf- 1100x管状炉:

注: 炉の管はquatzチューブ

外径径40ミリメートル手段

300mm手段の長さをホットゾーン

標準的なサイズのラ管真空炉:

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