• 実験室真空管炉1200c水平コンパクトcnt合成のための-実験用加熱装置
    商品番号: 11596557
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    商品の詳細

    分類: 実験室の暖房設備 銘柄: cy モデル番号: Cy-o1200-60it
    名: コンパクトな真空管炉 用法: cvd実験、 速いアニーリング、 グラフェンの成長 最大。 加熱速度: 20度/min
    気性。 制御: pid自動制御 管材料: 高純度石英 パワー: 3.5kw
    フランジ接続: ステンレス鋼の真空フランジ 室材料: インポートファイバ 熱電対: k型
    チューブの長さ: 千ミリメートル

    包装

    包装: 合板ボックス、 または顧客の要求として
    製品の説明

    実験室1200c水平コンパクト真空管炉用cnt合成

    アプリケーションのコンパクト真空管炉

    1. cvd実験

    2。準備のカーボンナノチューブ

    3. growthのグラフェン

    4。結晶シリコン基板コーティング

    5。拡散溶接用金属材料

    6. heat治療下を真空の雰囲気環境

     

    特長のコンパクト真空管炉

    1. fast加熱率: °c/min

    2. multi機能: cvd実験、成長のグラフェン、多結晶シリコン基板コーティングとなど

    3. lcdタッチスクリーン

    4.50ステップのプログラマブル自動制御

    5. can接続で真空ポンプと雰囲気炉。

    6. acceptpcインターフェース制御

     

    技術的パラメータのコンパクト真空管炉

     

    炉パラメータ

    炉建設

    •高純度セラミック繊維断熱(省エネ30%と

    重量軽い約30%よりも古い炉)。

    •二層鋼ケーシングでファン冷却、を確保する

    表面の炉下記50 ℃。
    •パーフェクトシールステンレス鋼フランジ付きブロック。

    商工サイズ

    Φ * 1000ミリメートル、Φ60*1000ミリメートル、Φ80*1000ミリメートル、Φ100*1000ミリメートル

    またはとしてカスタマイズされた

    電源

    0.8kw〜10kw、ベースに加熱ゾーン長さ

    マックス。温度

    1200 ℃ (< 2時間)

    連続作業温度。

    1150 ℃

    マックス。加熱率

    20 ℃/min

    温度コントローラ

    • pid自動制御と自動微調整機能。
    • 30プログラマブルセグメントため正確な制御。
    •過熱と壊れた熱電対。
    •デジタル制御パネルledボタンまたはlcdタッチスクリーン

    温度精度

    +/-1 °c

    加熱要素

    aludirome

    熱カップル

    kタイプ

    電圧

    交流110ボルトまたは交流220ボルト50/60ヘルツ

    (教えてくださいときあなたの場所の順序。)

    真空ポンプ

    l交流220ボルト50 hz 1/2hp 375ワット

    l 2リットル/ sまたは120リットル/ m

    lオイルトラップ(入口)と排気フィルタ(出口)インストールされている。

    lマックス。真空: 10-2トル

    lオプション:正確な制御の真空圧力、私たちは選択したお勧め

    当社のターンキーソリューションEQ-VPC-MV。これは真空圧力調整システム

    付き電動バルブとゲージ。

    それコントロール圧力範囲から10 ^-6トル〜760トル。

     

    アクセサリー

    (送料充電)

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