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    正直超耐食性を有する窒化ホウ素プレートディスク-導電性セラミックス
    商品番号: 10429650
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    商品の詳細

    原産地: 中国(本土) 銘柄: dx モデル番号: Dxbng015-0014
    タイプ: 絶縁の製陶術 材料: ほう素の窒化物 形状: プレート
    色: 温度の中で酸素を使ってmax: >900c 温度を使ってmaxで不活性ガス: >1700
    真空中で温度を使ってmax: >1700

    包装

    包装: 真空バッグ付きで缶木製

    正直超耐食性を有する窒化ホウ素プレートディスク

     

    窒化ホウ素プレートの一種である新しい産業資材、 六角形の一種であるシステムの結晶、 を有するscalelikestruction、 その外観は象牙様。

     

    に起因する窒化ホウ素板のグラファイトに近い構造であると性能を持っても多くの類似点、 ので、 それは別名「 ホワイトグラファイト』、 その構造グラファイトに似てい、 フレークに属している六方晶構造、 理論密度は2.27g/cm3,2モース硬度は。

     

    窒化ホウ素プレートを主な性能:

     

    1.高耐熱性

     

    2.熱伝導率の高い

     

    3.低熱膨張係数

     

    4.優れた電気特性

     

    5.優れた耐食性

     

    6.低摩擦係数を

     

    7.高純度: 不純物の含有量は10ppm未満の

     

    8.被削性: そのモース硬度が2

     

    に応じて上記のパフォーマンス、 窒化ホウ素プレートのでエレクトロニクス分野における多くの用途があり、 冶金、 化学工業、 航空宇宙などの高度な技術: 窒化ホウ素プレートを使用しては高い絶縁熱伝導窒化ホウ素板。

     

    窒化ホウ素プレートは、 主に航空宇宙産業で使用される、 と呼ばれる宇宙時代の材料は。 ミサイルを行う電子レンジ窓対流、 衛星通信を行く波管クランプレバー、 マイクロ波導波管を絶縁ヒートシンク、 高温プラズマ風洞絶縁スライス。

     

    ホウ素のための使用される電子半導体が拡散するためのソースのすべての種類を行うチップ、 ガリウム砒素を成長坩堝材料。

     

    熱伝導率

    >15w/m& middot; k

    熱膨張率

    1.5*10-6・度; c

    抵抗率

    >1012・オメガ;& middot; m

    破壊電圧

    (2.5から4.0)* 106/kv& middot; m

    モースhardnees

    2

    誘電率

    3.8-4.3

    曲げ強度

    >35mpa

    圧縮強度

    >200mpa

    密度

    2.27g/cm3

    作業環境温度

    酸化性雰囲気

    900・度; c

    真空

    2200・度; c

    慣性

    2400・度; c

     

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